پاورپوینت سمینار درس نانو الکترونیک (pptx) 18 اسلاید
دسته بندی : پاورپوینت
نوع فایل : PowerPoint (.pptx) ( قابل ویرایش و آماده پرینت )
تعداد اسلاید: 18 اسلاید
قسمتی از متن PowerPoint (.pptx) :
سمینار درس نانو الکترونیک
ترانزیستورهای اثر میدانی با نانو لوله های
کربنی
بسمه تعالی
فهرست
مقدمه ای بر نانولوله های کربنی
روش های ساخت نانو لوله های کربنی
CNTFET
با گیت پشتی
CNTFET
با گیت بالا
مشکلات
CNTFET
کاربرد
CNTFET
در سنسور گاز
نتیجه گیری
1
CNTFET
با گیت دور نانو لوله
مراحل ساخت
CNTFET
گيت دور نانولوله
مقايسه پارامترهای كليدی ترانزيستورهای اثر ميدان مبتنی بر نانولوله های كربنی با
MOSFET bulk
و
UTSOI MOSFET
بررسی تئوری جريان درين در ترانزيستور اثر ميدان نانولوله كربنی گيت
کاربرد :ساخت گیت
NOT
با
CNTFET
اندازه بسیار کوچک
قابلیت تحرک حامل ها بالاست
انتقال حامل ها بصورت بالستیک صورت می گیرد
نانو لوله چند جداره
نانو لوله تک جداره
نانو لوله های کربنی
مزایای نانو لوله های کربنی
2
ن
در این روش جریان بزرگی را از دو الکترود کربنی در فضای حاوی ماده پلاسما عبور می دهند .که این امر منجر به ایجاد جرقه در شکاف بین دو الکترود می شود .در این صورت بیش از 30 درصد خاکستر تولید شده نانو لوله های کربنی هستند.
در این روش یک گاز حاوی کربن آن قدر گرم می شود تا ملکول های گاز شروع به تجزیه شدن ،کنند.در این حالت یک زیرلایه در حضور کاتالیزگر در معرض گاز قرار می گیرد .اتم های کربن بر روی زیرلایه و در نزدیکی دانه بلور نیمه رسانا (
seed
) که از قبل بر روی زیر لایه قرار داده شده جمع می شوند و تا وقتی که زیرلایه در معرض گاز باشد رشد نانولوله های کربنی ادامه دارد
این روش مشابه روش اول است با این تفاوت که در این روش از لیزر برای بمباران کردن یک هدف گرافیتی استفاده می شود. با تغییر دمای واکنش و میزان کاتالیزگرها می توان قطر نانو لوله تولید شده را کنترل کرد.
روش های ساخت نانو لوله های کربنی
تخلیه الکتریکی پلاسما
نشست شیمیایی بخار
تبخیر لیزر
3
در
ترانزیستور های اثر میدانی با نانولوله های کربنی با گیت پشتی
برای نمودار یک نمودار خطی است در حالی که با افزایش از صفر نمودار تبدیل به یک منحنی غیر خطی می شود
مشخصه انتقالی مانند ترانزیستور
MOSFET
نوع
p
است.
3
تمامی ترانزیستورهای روی یک ویفر بطور همزمان خاموش و روشن می شوند چون دارای گیت یکسان هستند.
ضخامت لایه اکسید زیاد است واز طرفی فرآیند تولید به گونه ای است که سطح تماس نانولوله کربنی با اکسید گیت کم بوده و برای خاموش روشن کردن قطعه با ولتاژ کم مشکل ایجاد می کند.
4
در هندسه ترانزيستورهای گيت بالايی كه اولين بار توسط
Bachtold
وهمکارانش ارائه
شده است ، برای بهره بيشتر ، نانولوله های كربنی به طور كامل درون عايق گيت قرار داده می شود . برخلاف ترانزيستورهای اثر ميدان نانولوله كربنی گيت پشتی ، می توان تعداد زيادی از اين نوع ترانزيستور را روی يك ويفر ساخت ، به دليل اينکه گيت های هر يك به
صورت مجزا می باشد . همچنين با توجه به ضخامت كم دی الکتريك گيت ، ميدان الکتريکی بزرگتری را می توان با يك ولتاژ كم روی نانولوله كربنی ايجاد كرد . با وجود روند ساخت پيچيده تر نسبت به ترانزيستورهای اثر ميدان نانولوله كربنی گيت پشتی ، مزايا فوق باعث می شوند كه اين نوع ترجيح داده شوند
ترانزیستور اثر میدانی با نانو لوله کربنی با گیت بالا
5
ترانزيستورهای اثر ميدان نانولوله های كربنی گيت دور نانولوله
قرار دادن گيت در اطراف و در تمام نانولوله كه باعث بهبود عملکرد می شود ، در سال 2011 شناخته و توسعه داده شد .ابتدا نانولوله كربنی كه دارای پوشش عايق است روی ويفر قرار داده می شود كه اتصال فلزی سورس و درين در دو طرف آن قرار داده می شود، سپس برای مشخص كردن و جدا كردن ناحيه سورس و درين ،
si
زير نانولوله كربنی زادیش كرد
.
این زدایش كردن تا رسيدن به عايق بستر ادامه پيدا می كند
.
سپس با استفاده از موادی كه ضريب دی الکتريك بالايی دارند ، عايق بين گيت و سورس و درين ايجاد شده و همچنين فلزی روی اين عايق جهت اتصال بهتر فلز گيت به نانولوله كربنی قرار داده می شود.
6
مراحل ساخت ترانزيستورهای اثر ميدان نانولوله های كربنی گيت دور نانولوله
7
مشکلات ترانزیستورهای اثرمیدانی با نانو لوله های کربنی
تغییر پذیری در قطر نانولوله های کربنی
نامرتبی در نانولوله ها
عدم وجود کنترل دقیق بروی موقعیت یابی
CNT
ها در هنگام ساخت
CNFET
،
باعث ایجاد نامنظمی درنانو لوله ها میشود .پیشرفتهای قابل ملاحظه ای برای ساخت
CNFET
به صورت مرتب صورت گرفته است و در حال حاضر کمتر از نیم درصد از نانولوله های ساخته شده روی بستر تک کریستال الماس نامنظم هستند .نانولوله های نامنظم ممکن است باعث ایجاد اتصال کوتاه بین خروجی و تغذیه شده
پروسه ساخت نانو لوله ها باعث شده است که در قطر لوله ها تغییرپذیری وجود داشته باشد که معمولا مقداری بین1 تا2 نانومتر داراست. با تغییر قطر نانولوله شکاف باند تغییر کرده و در نتیجه ولتاژ آستانه ترانزیستور و جریان ترانزیستور تغییر می کند
8